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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第59位 659件
（
2013年：第59位 716件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第54位 625件
（
2013年：第51位 717件）
（ランキング更新日：2024年12月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5469929 | 核酸分析装置 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5475433 | 検査システム及びイオン化プローブ | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5475344 | イオン源装置、イオン化プローブの製造方法及びイオン源装置の駆動方法 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5474312 | 荷電粒子ビーム装置及びその制御方法 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5473556 | 半導体検査装置の座標補正方法及び半導体検査装置 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5473453 | 荷電粒子線装置 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5473439 | 走査型電子顕微鏡、測定方法、アタッチメント、走査型荷電粒子装置 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5470625 | 粒子画像解析方法および装置 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5470295 | 生体試料の分析装置とその方法 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5470008 | 設計データを利用した欠陥レビュー装置および欠陥検査システム | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5470007 | 測定装置および全反射蛍光測定装置 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5469839 | 物体表面の欠陥検査装置および方法 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5469704 | 欠陥解析装置、欠陥解析方法および欠陥解析プログラム | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5473880 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5473793 | プロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置のギャップ制御方法 | 2014年 4月16日 |
625 件中 346-360 件を表示
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5469929 5475433 5475344 5474312 5473556 5473453 5473439 5470625 5470295 5470008 5470007 5469839 5469704 5473880 5473793
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12月13日(金) - 東京 品川
12月13日(金) -
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