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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第59位 659件
（
2013年：第59位 716件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第54位 625件
（
2013年：第51位 717件）
（ランキング更新日：2024年12月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5432816 | 自動分析システムおよび装置管理サーバ | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5432186 | 蛍光検出装置 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5430614 | 光学装置 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5433524 | 露光装置及び露光方法並びに表示用パネル基板製造装置及び表示用パネル基板の製造方法 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5430589 | 露光装置及び露光方法 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5430508 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の装置内温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5433260 | 複合磁気ヘッドの書込幅及び／又は読出幅の測定方法および測定装置 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5433775 | 撮像方法及び撮像装置 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5433725 | 撮像方法及び撮像装置 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5433631 | 半導体デバイスの欠陥検査方法およびそのシステム | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5433405 | 電子顕微鏡 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5433171 | 試料温度の制御方法 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5427975 | 電解質分析装置の管理システム | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5427974 | 電極，電気化学セルおよび分析装置並びにそれらの製造方法 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5427962 | 質量分析装置、分析法およびキャリブレーション試料 | 2014年 2月26日 |
625 件中 466-480 件を表示
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5432816 5432186 5430614 5433524 5430589 5430508 5433260 5433775 5433725 5433631 5433405 5433171 5427975 5427974 5427962
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12月13日(金) -
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