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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第59位 659件
（
2013年：第59位 716件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第54位 625件
（
2013年：第51位 717件）
（ランキング更新日：2024年12月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5427801 | 電気泳動装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5427722 | ナノポア式分析装置及び試料分析用チャンバ | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5427133 | 画像処理方法、画像処理記憶媒体、画像処理システム、および電子線またはエックス線コンピュータトモグラフィシステム | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5425728 | 検体処理システム | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5425601 | 荷電粒子線装置およびその画質改善方法 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5425487 | 自動分析装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5430489 | 液晶露光装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5430335 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5424976 | ＦＰＤモジュールの組立装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5427808 | 検査装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5427594 | 荷電粒子線装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5427569 | 荷電粒子線走査方法、及び荷電粒子線装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5426619 | 電子顕微鏡 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5424823 | 半導体製造装置及び半導体処理方法 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5424628 | 真空処理装置 | 2014年 2月26日 |
625 件中 481-495 件を表示
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5427801 5427722 5427133 5425728 5425601 5425487 5430489 5430335 5424976 5427808 5427594 5427569 5426619 5424823 5424628
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