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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第59位 659件
（
2013年：第59位 716件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第54位 625件
（
2013年：第51位 717件）
（ランキング更新日：2024年12月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5417306 | 欠陥検査方法および欠陥検査装置 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5417205 | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5416868 | 基板検査方法及び基板検査装置 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5416600 | 欠陥検査装置およびその方法 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5415523 | パターン検査装置及びその検査方法 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5414707 | 分析装置 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5414602 | 検査装置 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5414215 | 回路パターン検査装置、および回路パターンの検査方法 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5412207 | 生体分子固定基板及びその製造方法 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5416867 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5417428 | 電子顕微鏡および試料保持方法 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5417380 | リニアモータ，可動ステージおよび電子顕微鏡 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5416748 | プラズマ処理装置 | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5416319 | 荷電粒子線装置、試料観察システムおよび操作プログラム | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5415583 | 真空処理装置 | 2014年 2月12日 |
625 件中 511-525 件を表示
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5417306 5417205 5416868 5416600 5415523 5414707 5414602 5414215 5412207 5416867 5417428 5417380 5416748 5416319 5415583
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