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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第59位 659件
（
2013年：第59位 716件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第54位 625件
（
2013年：第51位 717件）
（ランキング更新日：2024年12月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5408620 | データ分散管理システム及びデータ分散管理方法 | 2014年 2月 5日 | |
| 特許 5409685 | イオンビーム装置および加工方法 | 2014年 2月 5日 | |
| 特許 5409511 | 電子顕微鏡、および電子顕微鏡の光軸調整方法 | 2014年 2月 5日 | |
| 特許 5409063 | 真空処理装置 | 2014年 2月 5日 | |
| 特許 5408852 | パターン測定装置 | 2014年 2月 5日 | |
| 特許 5406308 | 電子線を用いた試料観察方法及び電子顕微鏡 | 2014年 2月 5日 | |
| 特許 5406293 | 荷電粒子線装置 | 2014年 2月 5日 | |
| 特許 5400749 | 蒸着装置 | 2014年 1月29日 | |
| 特許 5400653 | 真空蒸着装置 | 2014年 1月29日 | |
| 特許 5401605 | テンプレートマッチング処理装置およびテンプレートマッチング処理プログラム | 2014年 1月29日 | |
| 特許 5401481 | キャップおよび検体分注装置 | 2014年 1月29日 | |
| 特許 5401427 | 自動分析装置 | 2014年 1月29日 | |
| 特許 5401413 | 分析システム | 2014年 1月29日 | |
| 特許 5400882 | 半導体検査装置及びそれを用いた半導体検査方法 | 2014年 1月29日 | |
| 特許 5400548 | レジスト膜面ムラ検査装置及び検査方法並びにＤＴＭ製造ライン | 2014年 1月29日 |
625 件中 541-555 件を表示
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5408620 5409685 5409511 5409063 5408852 5406308 5406293 5400749 5400653 5401605 5401481 5401427 5401413 5400882 5400548
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ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ～秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約～
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12月13日(金) - 東京 品川
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