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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第59位 716件
（
2012年：第54位 709件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第51位 717件
（
2012年：第71位 547件）
（ランキング更新日：2024年11月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5358336 | 自動分析装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5358527 | 分光光度計、および吸光度測定方法 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5358364 | プラズマ処理装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5356732 | 真空処理装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5361137 | 荷電粒子ビーム測長装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5358697 | 成膜装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5358296 | 荷電粒子線装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5361448 | プラズマ処理装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5357639 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5357528 | 半導体ウェハ検査装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5357725 | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5361171 | 電磁コイル | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5357889 | 荷電粒子ビーム装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5358466 | 液体クロマトグラフ装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5358334 | 逆止弁を用いた送液装置、および反応液体クロマトグラフシステム | 2013年12月 4日 |
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5358336 5358527 5358364 5356732 5361137 5358697 5358296 5361448 5357639 5357528 5357725 5361171 5357889 5358466 5358334
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