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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第59位 716件
（
2012年：第54位 709件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第51位 717件
（
2012年：第71位 547件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5355261 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光形成方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5351531 | 走査型電子顕微鏡及び走査型電子顕微鏡のドリフト補正方法 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5355922 | 欠陥検査装置 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5352111 | 欠陥検査方法及びこれを用いた欠陥検査装置 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5345970 | 液体クロマトグラフ装置 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5344733 | 高周波電力発生装置 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5349093 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板位置決め方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5345194 | 液体クロマトグラフ | 2013年11月20日 | |
| 特許 5349163 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5349978 | 荷電粒子線を用いた寸法計測方法、および寸法計測装置 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5349742 | 表面検査方法及び表面検査装置 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5346256 | プラズマ処理装置 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5346254 | 半導体製造装置の制御装置及び制御方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5349805 | 半導体デバイス製造装置の製造方法及び半導体デバイス製造装置の洗浄方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5345032 | 電子部品実装装置 | 2013年11月20日 |
717 件中 76-90 件を表示
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5355261 5351531 5355922 5352111 5345970 5344733 5349093 5345194 5349163 5349978 5349742 5346256 5346254 5349805 5345032
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