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東京応化工業株式会社

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  2013年 出願公開件数ランキング    第230位 206件 上昇2012年:第333位 124件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第194位 216件 上昇2012年:第259位 143件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2013-104985 選択 EUV用又はEB用レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 2013年 5月30日
特開 2013-105147 選択 レジストパターン形成方法 2013年 5月30日
特開 2013-102052 選択 基板処理装置及び基板処理方法 2013年 5月23日
特開 2013-101355 選択 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 2013年 5月23日
特開 2013-101222 選択 EUV用またはEB用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2013年 5月23日
特開 2013-101277 選択 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 2013年 5月23日
特開 2013-101390 選択 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ 2013年 5月23日
特開 2013-97274 選択 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 2013年 5月20日
特開 2013-97272 選択 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2013年 5月20日
特開 2013-95880 選択 高分子化合物の製造方法、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2013年 5月20日
特開 2013-95844 選択 水溶性塗布膜材料、水溶性塗布膜材料の粘度調整方法、及び水溶性塗布膜材料用粘度調整剤 2013年 5月20日
特開 2013-97193 選択 フォトリソグラフィ用剥離液及びパターン形成方法 2013年 5月20日
特開 2013-92618 選択 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 2013年 5月16日
特開 2013-92736 選択 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、新規な化合物 2013年 5月16日
特開 2013-91773 選択 樹脂組成物、感光性樹脂組成物、スペーサ、及び表示装置 2013年 5月16日

206 件中 136-150 件を表示

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2013-104985 2013-105147 2013-102052 2013-101355 2013-101222 2013-101277 2013-101390 2013-97274 2013-97272 2013-95880 2013-95844 2013-97193 2013-92618 2013-92736 2013-91773

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