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東京応化工業株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第366位 107件 下降2010年:第258位 187件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第252位 139件 上昇2010年:第315位 98件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-43786 パターン形成方法 2011年 3月 3日
特開 2011-43749 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 2011年 3月 3日
特開 2011-35380 基板処理システム 2011年 2月17日
特開 2011-32412 接着剤組成物、及び接着フィルム 2011年 2月17日
特開 2011-35379 塗布装置及びノズルの管理方法 2011年 2月17日
特開 2011-26548 接着剤組成物および接着フィルム 2011年 2月10日
特開 2011-23689 サポートプレートの洗浄方法 2011年 2月 3日
特開 2011-23698 ナノインプリント用組成物およびパターン形成方法 2011年 2月 3日
再表 2009-41681 共重合体、樹脂組成物、表示パネル用スペーサー、平坦化膜、熱硬化性保護膜、マイクロレンズ、および共重合体の製造方法 2011年 1月27日
特開 2011-13569 ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素高分子化合物 2011年 1月20日
特開 2011-13502 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2011年 1月20日
特開 2011-13501 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 2011年 1月20日
特開 2011-12098 接着剤組成物および接着フィルム 2011年 1月20日
特開 2011-8001 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2011年 1月13日
特開 2011-6595 接着剤組成物、および接着フィルム 2011年 1月13日

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2011-43786 2011-43749 2011-35380 2011-32412 2011-35379 2011-26548 2011-23689 2011-23698 2009-41681 2011-13569 2011-13502 2011-13501 2011-12098 2011-8001 2011-6595

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