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東京応化工業株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第366位 107件
（
2010年：第258位 187件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第252位 139件
（
2010年：第315位 98件）
（ランキング更新日：2025年6月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4611724 | 遮光膜形成用感光性組成物、該遮光膜形成用感光性組成物で形成されたブラックマトリクス | 2011年 1月12日 | |
| 特許 4611813 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 1月12日 | |
| 特許 4611690 | レジストパターンの形成方法ならびにこれを用いた微細パターンの形成方法および液晶表示素子の製造方法 | 2011年 1月12日 | |
| 特許 4609898 | 剥離洗浄液、それを用いた半導体基板洗浄方法、及び半導体基板上の配線形成方法 | 2011年 1月12日 | 共同出願 |
139 件中 136-139 件を表示
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4611724 4611813 4611690 4609898
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