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東京応化工業株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第366位 107件
（
2010年：第258位 187件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第252位 139件
（
2010年：第315位 98件）
（ランキング更新日：2025年6月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4818882 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4817802 | 搬送処理装置 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4810411 | 処理装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4813103 | 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4813323 | 液体薬品の分配装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4812610 | ノズルの洗浄方法 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4808385 | ナノ材料の製造方法 | 2011年11月 2日 | 共同出願 |
| 特許 4808646 | レジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4808574 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および樹脂 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4804873 | スリットノズル | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4808545 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4805033 | 洗浄ローラ | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4804950 | 有機膜の液浸リソグラフィ溶解成分測定方法 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4804028 | ナノ構造体の製造方法 | 2011年10月26日 | 共同出願 |
| 特許 4803714 | 塗布装置及び塗布方法 | 2011年10月26日 |
139 件中 16-30 件を表示
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4818882 4817802 4810411 4813103 4813323 4812610 4808385 4808646 4808574 4804873 4808545 4805033 4804950 4804028 4803714
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