特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京応化工業株式会社

※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第366位　107件（2010年：第258位　187件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第252位　139件（2010年：第315位　98件）

（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 4804028	ナノ構造体の製造方法	2011年10月26日	共同出願
特許 4794870	遮光層形成用感光性樹脂組成物ならびに遮光層およびカラーフィルタ	2011年10月19日
特許 4794835	高分子化合物、酸発生剤、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法	2011年10月19日
特許 4791184	レジスト用樹脂、ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2011年10月12日
特許 4786238	レジスト組成物の製造方法、ろ過装置、レジスト組成物の塗布装置	2011年10月 5日
特許 4781874	サポートプレートの剥離方法	2011年 9月28日
特許 4781802	サポートプレートの貼り合わせ手段及び貼り合わせ装置、並びにサポートプレートの貼り合わせ方法	2011年 9月28日
特許 4781011	レジスト用樹脂、およびレジスト樹脂用モノマー	2011年 9月28日	共同出願
特許 4777174	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 9月21日
特許 4777175	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 9月21日
特許 4772288	ホトレジスト組成物用樹脂、ホトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法	2011年 9月14日
特許 4771893	基板保持装置	2011年 9月14日
特許 4772632	電子線用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 9月14日
特許 4772618	パターン形成方法、金属酸化物膜形成用材料およびその使用方法	2011年 9月14日
特許 4767829	リソグラフィー用洗浄剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法	2011年 9月 7日

139 件中 31-45 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

4804028 4794870 4794835 4791184 4786238 4781874 4781802 4781011 4777174 4777175 4772288 4771893 4772632 4772618 4767829

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数