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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第366位 107件
(2010年:第258位 187件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第252位 139件
(2010年:第315位 98件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4804028 | ナノ構造体の製造方法 | 2011年10月26日 | 共同出願 |
特許 4794870 | 遮光層形成用感光性樹脂組成物ならびに遮光層およびカラーフィルタ | 2011年10月19日 | |
特許 4794835 | 高分子化合物、酸発生剤、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 | 2011年10月19日 | |
特許 4791184 | レジスト用樹脂、ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2011年10月12日 | |
特許 4786238 | レジスト組成物の製造方法、ろ過装置、レジスト組成物の塗布装置 | 2011年10月 5日 | |
特許 4781874 | サポートプレートの剥離方法 | 2011年 9月28日 | |
特許 4781802 | サポートプレートの貼り合わせ手段及び貼り合わせ装置、並びにサポートプレートの貼り合わせ方法 | 2011年 9月28日 | |
特許 4781011 | レジスト用樹脂、およびレジスト樹脂用モノマー | 2011年 9月28日 | 共同出願 |
特許 4777174 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 9月21日 | |
特許 4777175 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 9月21日 | |
特許 4772288 | ホトレジスト組成物用樹脂、ホトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 | 2011年 9月14日 | |
特許 4771893 | 基板保持装置 | 2011年 9月14日 | |
特許 4772632 | 電子線用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 9月14日 | |
特許 4772618 | パターン形成方法、金属酸化物膜形成用材料およびその使用方法 | 2011年 9月14日 | |
特許 4767829 | リソグラフィー用洗浄剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法 | 2011年 9月 7日 |
139 件中 31-45 件を表示
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4804028 4794870 4794835 4791184 4786238 4781874 4781802 4781011 4777174 4777175 4772288 4771893 4772632 4772618 4767829
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パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
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2月25日(火) -
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