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東京応化工業株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第366位 107件 下降2010年:第258位 187件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第252位 139件 上昇2010年:第315位 98件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 4804028 ナノ構造体の製造方法 2011年10月26日 共同出願
特許 4794870 遮光層形成用感光性樹脂組成物ならびに遮光層およびカラーフィルタ 2011年10月19日
特許 4794835 高分子化合物、酸発生剤、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 2011年10月19日
特許 4791184 レジスト用樹脂、ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2011年10月12日
特許 4786238 レジスト組成物の製造方法、ろ過装置、レジスト組成物の塗布装置 2011年10月 5日
特許 4781874 サポートプレートの剥離方法 2011年 9月28日
特許 4781802 サポートプレートの貼り合わせ手段及び貼り合わせ装置、並びにサポートプレートの貼り合わせ方法 2011年 9月28日
特許 4781011 レジスト用樹脂、およびレジスト樹脂用モノマー 2011年 9月28日 共同出願
特許 4777174 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2011年 9月21日
特許 4777175 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2011年 9月21日
特許 4772288 ホトレジスト組成物用樹脂、ホトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 2011年 9月14日
特許 4771893 基板保持装置 2011年 9月14日
特許 4772632 電子線用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2011年 9月14日
特許 4772618 パターン形成方法、金属酸化物膜形成用材料およびその使用方法 2011年 9月14日
特許 4767829 リソグラフィー用洗浄剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法 2011年 9月 7日

139 件中 31-45 件を表示

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4804028 4794870 4794835 4791184 4786238 4781874 4781802 4781011 4777174 4777175 4772288 4771893 4772632 4772618 4767829

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