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東京応化工業株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第333位 124件
（
2011年：第366位 107件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第259位 143件
（
2011年：第252位 139件）
（ランキング更新日：2025年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5042539 | 感光性樹脂組成物、およびこれを用いた液晶配向制御用バンプ | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5037359 | ホトリソグラフィ用洗浄液およびこれを用いた露光装置の洗浄方法 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5033550 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5036996 | 洗浄液および洗浄方法 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5037158 | 反射防止膜形成用組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5037442 | 窒化チタン除去液、窒化チタン被膜の除去方法、及び窒化チタン除去液の製造方法 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5036596 | 吸着装置 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5036614 | 基板用ステージ | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5034836 | 充填装置 | 2012年 9月26日 | 共同出願 |
| 特許 5027460 | ウエハの接着方法、薄板化方法、及び剥離方法 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5028242 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5031277 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5031310 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 9月19日 | 共同出願 |
| 特許 5026008 | 膜形成組成物 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5016321 | サポートプレートの処理方法 | 2012年 9月 5日 |
143 件中 31-45 件を表示
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5042539 5037359 5033550 5036996 5037158 5037442 5036596 5036614 5034836 5027460 5028242 5031277 5031310 5026008 5016321
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