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東京応化工業株式会社

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  2014年 出願公開件数ランキング    第266位 159件 下降2013年:第230位 206件)

  2014年 特許取得件数ランキング    第204位 207件 下降2013年:第194位 216件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5600384 ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2014年10月 1日
特許 5597677 化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2014年10月 1日
特許 5597460 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 2014年10月 1日
特許 5593034 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 2014年 9月17日
特許 5592064 ポジ型レジスト組成物 2014年 9月17日
特許 5588396 高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 2014年 9月10日
特許 5588113 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 2014年 9月10日
特許 5586820 高屈折率材料 2014年 9月10日
特許 5580800 積層体、およびその積層体の分離方法 2014年 8月27日
特許 5576411 新規な化合物 2014年 8月20日
特許 5576702 剥離方法及び剥離装置 2014年 8月20日
特許 5576091 感光性樹脂組成物及び基材 2014年 8月20日
特許 5572739 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 2014年 8月13日
特許 5572345 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 2014年 8月13日
特許 5572308 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2014年 8月13日

207 件中 31-45 件を表示

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5600384 5597677 5597460 5593034 5592064 5588396 5588113 5586820 5580800 5576411 5576702 5576091 5572739 5572345 5572308

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