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東京応化工業株式会社

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 4767829	リソグラフィー用洗浄剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法	2011年 9月 7日
特許 4763390	感光性樹脂組成物	2011年 8月31日
特許 4762867	ホトリソグラフィ用洗浄液およびこれを用いた基板の洗浄方法	2011年 8月31日
特許 4762829	パターン微細化用被覆形成剤およびそれを用いた微細パターンの形成方法	2011年 8月31日
特許 4762821	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 8月31日
特許 4762630	レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 8月31日
特許 4754265	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 8月24日
特許 4754421	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 8月24日
特許 4757766	液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 8月24日
特許 4754457	ディスペンサ	2011年 8月24日
特許 4756963	カラーフィルタ用感光性樹脂組成物およびこれを用いたカラーフィルタ	2011年 8月24日
特許 4757525	シリカ系被膜形成用組成物	2011年 8月24日
特許 4755573	処理装置および処理方法、ならびに表面処理治具	2011年 8月24日
特許 4757524	シリカ系被膜形成用組成物	2011年 8月24日
特許 4757532	電子線用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 8月24日

139 件中 46-60 件を表示

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4767829 4763390 4762867 4762829 4762821 4762630 4754265 4754421 4757766 4754457 4756963 4757525 4755573 4757524 4757532

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