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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5016296 | 接着剤組成物、及び接着フィルム | 2012年 9月 5日 | |
特許 5020646 | 感光性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法 | 2012年 9月 5日 | |
特許 5020645 | 感光性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法 | 2012年 9月 5日 | |
特許 5016321 | サポートプレートの処理方法 | 2012年 9月 5日 | |
特許 5010995 | 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 8月29日 | |
特許 5006013 | 厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 | 2012年 8月22日 | |
特許 5008908 | 注出口付き包装袋 | 2012年 8月22日 | 共同出願 |
特許 5008838 | 高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 8月22日 | |
特許 5008340 | 基板の薄板化方法、貼り合わせシステムおよび薄板化システム | 2012年 8月22日 | |
特許 5009718 | スリットノズル待機ユニット | 2012年 8月22日 | |
特許 5002323 | 含フッ素高分子化合物、液浸露光用ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 | 2012年 8月15日 | |
特許 5000241 | 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 8月15日 | |
特許 5001192 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 | 2012年 8月15日 | |
特許 5000250 | パターン形成方法 | 2012年 8月15日 | |
特許 5000112 | ナノインプリントリソグラフィによるパターン形成方法 | 2012年 8月15日 |
143 件中 46-60 件を表示
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5016296 5020646 5020645 5016321 5010995 5006013 5008908 5008838 5008340 5009718 5002323 5000241 5001192 5000250 5000112
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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