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東京応化工業株式会社

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 5568258	ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素高分子化合物	2014年 8月 6日
特許 5568254	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物	2014年 8月 6日
特許 5564402	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤	2014年 7月30日
特許 5563752	塗布装置及び塗布方法	2014年 7月30日	共同出願
特許 5564555	新規な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2014年 7月30日
特許 5560049	ナノインプリント用組成物およびパターン形成方法	2014年 7月23日
特許 5559501	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2014年 7月23日
特許 5557656	レジストパターン形成方法	2014年 7月23日
特許 5557657	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤	2014年 7月23日
特許 5555469	拡散剤組成物、および不純物拡散層の形成方法	2014年 7月23日
特許 5558191	剥離装置及び剥離方法	2014年 7月23日
特許 5551412	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤	2014年 7月16日
特許 5552365	接着剤組成物および接着フィルム	2014年 7月16日
特許 5550882	塗布装置	2014年 7月16日	共同出願
特許 5548494	表面改質材料、レジストパターン形成方法及びパターン形成方法	2014年 7月16日

207 件中 46-60 件を表示

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5568258 5568254 5564402 5563752 5564555 5560049 5559501 5557656 5557657 5555469 5558191 5551412 5552365 5550882 5548494

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