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東京応化工業株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第366位 107件 下降2010年:第258位 187件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第252位 139件 上昇2010年:第315位 98件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 4749664 選択 電子材料用粗樹脂の精製方法、化学増幅型ホトレジスト組成物及びその製造方法 2011年 8月17日
特許 4749760 選択 三次元微小成形体の製造方法 2011年 8月17日
特許 4750724 選択 重ね合わせユニット及び貼り合わせ装置 2011年 8月17日
特許 4745174 選択 保護膜除去後の除去液回収システムおよび保護膜除去後の除去液回収方法 2011年 8月10日 共同出願
特許 4745092 選択 黒色感光性組成物、この黒色感光性組成物より製造された遮光膜及びEL素子 2011年 8月10日
特許 4745093 選択 黒色感光性組成物 2011年 8月10日
特許 4745110 選択 感光性組成物及びこの感光性組成物により形成されたカラーフィルタ 2011年 8月10日
特許 4745146 選択 着色感光性樹脂組成物 2011年 8月10日
特許 4738803 選択 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 2011年 8月 3日
特許 4732038 選択 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2011年 7月27日
特許 4732046 選択 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2011年 7月27日
特許 4727344 選択 感光性組成物 2011年 7月20日
特許 4727092 選択 化学増幅型レジスト組成物 2011年 7月20日
特許 4730771 選択 処理液供給ノズル及び基板処理装置 2011年 7月20日
特許 4722417 選択 化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2011年 7月13日

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4749664 4749760 4750724 4745174 4745092 4745093 4745110 4745146 4738803 4732038 4732046 4727344 4727092 4730771 4722417

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