特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京応化工業株式会社

※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第366位　107件（2010年：第258位　187件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第252位　139件（2010年：第315位　98件）

（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 4749664	電子材料用粗樹脂の精製方法、化学増幅型ホトレジスト組成物及びその製造方法	2011年 8月17日
特許 4749760	三次元微小成形体の製造方法	2011年 8月17日
特許 4750724	重ね合わせユニット及び貼り合わせ装置	2011年 8月17日
特許 4745174	保護膜除去後の除去液回収システムおよび保護膜除去後の除去液回収方法	2011年 8月10日	共同出願
特許 4745092	黒色感光性組成物、この黒色感光性組成物より製造された遮光膜及びＥＬ素子	2011年 8月10日
特許 4745093	黒色感光性組成物	2011年 8月10日
特許 4745110	感光性組成物及びこの感光性組成物により形成されたカラーフィルタ	2011年 8月10日
特許 4745146	着色感光性樹脂組成物	2011年 8月10日
特許 4738803	高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法	2011年 8月 3日
特許 4732038	化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 7月27日
特許 4732046	レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 7月27日
特許 4727344	感光性組成物	2011年 7月20日
特許 4727092	化学増幅型レジスト組成物	2011年 7月20日
特許 4730771	処理液供給ノズル及び基板処理装置	2011年 7月20日
特許 4722417	化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 7月13日

139 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

4749664 4749760 4750724 4745174 4745092 4745093 4745110 4745146 4738803 4732038 4732046 4727344 4727092 4730771 4722417

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数