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東京応化工業株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第266位 159件
（
2013年：第230位 206件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第204位 207件
（2013年：第194位 216件）
（ランキング更新日：2025年10月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5551412 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 | 2014年 7月16日 | |
| 特許 5544151 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5542413 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5542500 | レジストパターン形成方法およびレジスト組成物 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5544212 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物およびその製造方法、酸発生剤 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5544126 | 光学素子の製造方法、光学素子、低屈折率層形成用組成物 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5542402 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、および酸発生剤 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5544267 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5542412 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5546734 | 着色感光性樹脂組成物、ブラックマトリックス、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5544078 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5539304 | ポジ型レジスト組成物 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5537357 | 保護膜形成用材料及びホトレジストパターン形成方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5537889 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5527960 | 回転処理装置 | 2014年 6月25日 |
207 件中 61-75 件を表示
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5551412 5544151 5542413 5542500 5544212 5544126 5542402 5544267 5542412 5546734 5544078 5539304 5537357 5537889 5527960
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