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東京応化工業株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第333位 124件
（
2011年：第366位 107件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第259位 143件
（
2011年：第252位 139件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4975382 | 化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 7月11日 | |
| 特許 4971078 | 表面処理装置 | 2012年 7月11日 | |
| 特許 4970803 | 膜形成用材料の製造方法 | 2012年 7月11日 | 共同出願 |
| 特許 4969916 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 7月 4日 | |
| 特許 4969829 | 化合物およびその製造方法 | 2012年 7月 4日 | |
| 特許 4965485 | 処理液浸透ユニットおよび処理装置 | 2012年 7月 4日 | |
| 特許 4963254 | ナノインプリント用の膜形成組成物、並びに構造体の製造方法及び構造体 | 2012年 6月27日 | |
| 特許 4964107 | 剥離装置 | 2012年 6月27日 | |
| 特許 4954576 | 厚膜レジスト積層体およびその製造方法、レジストパターン形成方法 | 2012年 6月20日 | |
| 特許 4959171 | 化合物、溶解抑制剤、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2012年 6月20日 | |
| 特許 4958287 | 剥がし装置における剥離方法 | 2012年 6月20日 | |
| 特許 4949692 | 低屈折率シリカ系被膜形成用組成物 | 2012年 6月13日 | |
| 特許 4949810 | 着色感光性樹脂組成物 | 2012年 6月13日 | |
| 特許 4951395 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 6月13日 | |
| 特許 4951411 | ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法 | 2012年 6月13日 |
143 件中 76-90 件を表示
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4975382 4971078 4970803 4969916 4969829 4965485 4963254 4964107 4954576 4959171 4958287 4949692 4949810 4951395 4951411
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