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東京応化工業株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第266位 159件
（
2013年：第230位 206件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第204位 207件
（2013年：第194位 216件）
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5525779 | 接着剤組成物、及び接着フィルム | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5522900 | 電極形成用導電性組成物及び太陽電池の形成方法 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5523922 | 剥離方法及び剥離装置 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5525782 | 接着剤組成物および接着フィルム | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5520999 | 化合物の製造方法、新規化合物 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5518284 | ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、塗布装置及び塗布方法 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5518575 | パターン形成方法 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5520569 | レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5520515 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5518671 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5518394 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5518427 | 塗布装置 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5518458 | パターン形成方法 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5512763 | 高分子化合物 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5512481 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年 6月 4日 |
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5525779 5522900 5523922 5525782 5520999 5518284 5518575 5520569 5520515 5518671 5518394 5518427 5518458 5512763 5512481
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