特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京応化工業株式会社

※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第366位　107件（2010年：第258位　187件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第252位　139件（2010年：第315位　98件）

（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 4694686	半導体素子製造方法	2011年 6月 8日
特許 4684740	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 5月18日
特許 4684619	シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜形成用塗布液の調製方法	2011年 5月18日
特許 4684736	ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法	2011年 5月18日
特許 4680030	減圧処理装置	2011年 5月11日
特許 4679990	ポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 5月11日
特許 4676256	新規なラダー型シリコーン共重合体	2011年 4月27日
特許 4675776	ポジ型レジスト組成物、レジスト積層体及びレジストパターン形成方法	2011年 4月27日
特許 4675693	感光性樹脂組成物	2011年 4月27日
特許 4678673	ホトレジスト用剥離液	2011年 4月27日
特許 4672449	レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 4月20日
特許 4668042	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 4月13日
特許 4668016	ネガ型感光性樹脂組成物およびこれを用いたカラーフィルタの製造方法	2011年 4月13日
特許 4668048	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 4月13日
特許 4667945	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 4月13日

139 件中 91-105 件を表示

... 7

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

4694686 4684740 4684619 4684736 4680030 4679990 4676256 4675776 4675693 4678673 4672449 4668042 4668016 4668048 4667945

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数