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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件
(2012年:第333位 124件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件
(2012年:第259位 143件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5292133 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 9月18日 | |
特許 5291392 | 支持板剥離装置 | 2013年 9月18日 | |
特許 5285884 | 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 9月11日 | |
特許 5285882 | 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 9月11日 | |
特許 5285897 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 9月11日 | |
特許 5285793 | サポートプレートの処理方法 | 2013年 9月11日 | |
特許 5280000 | 減圧乾燥処理装置 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5280011 | レジストパターン形成方法 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5283824 | 膜形成組成物 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5281821 | 着色感光性樹脂組成物 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5279353 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体およびパターン形成方法 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5276003 | 共重合体、樹脂組成物、表示パネル用スペーサー、平坦化膜、熱硬化性保護膜、マイクロレンズ、および共重合体の製造方法 | 2013年 8月28日 | |
特許 5276314 | 接着剤組成物および接着フィルム | 2013年 8月28日 | |
特許 5276821 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 8月28日 | |
特許 5276805 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 8月28日 |
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5292133 5291392 5285884 5285882 5285897 5285793 5280000 5280011 5283824 5281821 5279353 5276003 5276314 5276821 5276805
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2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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