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東京応化工業株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第366位 107件
（
2010年：第258位 187件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第252位 139件
（
2010年：第315位 98件）
（ランキング更新日：2025年6月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4637968 | ホトレジスト組成物の製造方法 | 2011年 2月23日 | |
| 特許 4637967 | ホトレジスト組成物の製造方法 | 2011年 2月23日 | |
| 特許 4637476 | ホトレジスト組成物の製造方法 | 2011年 2月23日 | |
| 特許 4633582 | 感光性組成物 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4633655 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4633648 | 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4628899 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4627227 | 感光性組成物およびブラックマトリクス | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4627224 | 顔料分散型感放射線樹脂組成物および着色パターンの形成方法 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4628809 | ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4619139 | スリットノズル | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4615497 | レジスト保護膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 | 2011年 1月19日 | |
| 特許 4611701 | シリカ系被膜形成用塗布液 | 2011年 1月12日 | |
| 特許 4611813 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 1月12日 | |
| 特許 4611690 | レジストパターンの形成方法ならびにこれを用いた微細パターンの形成方法および液晶表示素子の製造方法 | 2011年 1月12日 |
139 件中 121-135 件を表示
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4637968 4637967 4637476 4633582 4633655 4633648 4628899 4627227 4627224 4628809 4619139 4615497 4611701 4611813 4611690
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