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東京応化工業株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第333位 124件
（
2011年：第366位 107件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第259位 143件
（
2011年：第252位 139件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4884889 | フォトレジスト用剥離液およびこれを用いた基板の処理方法 | 2012年 2月29日 | |
| 特許 4884951 | 厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 | 2012年 2月29日 | |
| 特許 4884876 | 層間絶縁膜用感光性樹脂組成物 | 2012年 2月29日 | |
| 特許 4884038 | スリットノズル洗浄装置 | 2012年 2月22日 | |
| 特許 4879559 | 化合物およびその製造方法 | 2012年 2月22日 | |
| 特許 4878900 | 基板処理装置 | 2012年 2月15日 | |
| 特許 4869977 | 下層膜用組成物及び多層レジストパターン形成方法 | 2012年 2月 8日 | |
| 特許 4871786 | パターン形成方法 | 2012年 2月 8日 | |
| 特許 4871783 | パターン形成方法 | 2012年 2月 8日 | |
| 特許 4870202 | レジストパターンの形成方法 | 2012年 2月 8日 | |
| 特許 4869811 | 微細パターンの形成方法 | 2012年 2月 8日 | |
| 特許 4866790 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 2月 1日 | |
| 特許 4866783 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 2月 1日 | |
| 特許 4866781 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 2月 1日 | |
| 特許 4865729 | 基板加工方法 | 2012年 2月 1日 |
143 件中 121-135 件を表示
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4884889 4884951 4884876 4884038 4879559 4878900 4869977 4871786 4871783 4870202 4869811 4866790 4866783 4866781 4865729
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