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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第448位 90件
（
2012年：第528位 66件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第712位 45件
（2012年：第1187位 23件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5282941 | 近接露光装置 | 2013年 9月 4日 | |
| 特許 5261665 | 近接露光装置 | 2013年 8月14日 | |
| 特許 5261847 | アライメント方法、アライメント装置及び露光装置 | 2013年 8月14日 | |
| 特許 5261845 | 欠陥修正方法 | 2013年 8月14日 | |
| 特許 5256434 | 近接露光装置 | 2013年 8月 7日 | |
| 特許 5258051 | 露光方法及び露光装置 | 2013年 8月 7日 | |
| 特許 5235062 | 露光装置 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5235061 | 露光装置 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5224341 | 露光装置及びフォトマスク | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5224344 | 蛍光顕微鏡 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5224343 | レーザ加工装置 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5217367 | フォトマスク及びそれを使用した凸状パターン形成方法 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5217930 | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5190886 | 蛍光顕微鏡 | 2013年 4月24日 | |
| 特許 5190609 | 露光装置及びそれに使用するフォトマスク | 2013年 4月24日 |
45 件中 16-30 件を表示
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5282941 5261665 5261847 5261845 5256434 5258051 5235062 5235061 5224341 5224344 5224343 5217367 5217930 5190886 5190609
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