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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第606位 53件
（
2013年：第448位 90件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第644位 49件
（
2013年：第712位 45件）
（ランキング更新日：2025年2月7日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5585804 | 表面形状測定方法 | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5577086 | 基板用異物除去装置及び基板用異物除去方法 | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5565659 | レーザ加工装置 | 2014年 8月 6日 | |
| 特許 5557188 | レーザ照射装置 | 2014年 7月23日 | |
| 特許 5555865 | 研磨装置 | 2014年 7月23日 | |
| 特許 5534402 | 低温ポリシリコン膜の形成装置及び方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5540263 | 半導体装置及びその製造方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5540280 | レーザ加工装置 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5531229 | カラーフィルタ修正方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5517308 | マスクの製造方法、マスク及びマスクの製造装置 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5515119 | マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5515163 | 露光用マスク及び露光装置 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5515025 | マスク、それに使用するマスク用部材、マスクの製造方法及び有機ＥＬ表示用基板の製造方法 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5515120 | マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5504503 | パターン生成方法及びパターン生成装置並びにレーザ加工装置 | 2014年 5月28日 |
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5585804 5577086 5565659 5557188 5555865 5534402 5540263 5540280 5531229 5517308 5515119 5515163 5515025 5515120 5504503
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