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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第448位 90件
（
2012年：第528位 66件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第712位 45件
（2012年：第1187位 23件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5190609 | 露光装置及びそれに使用するフォトマスク | 2013年 4月24日 | |
| 特許 5164002 | レーザ加工装置 | 2013年 3月13日 | |
| 特許 5164001 | レーザ加工装置 | 2013年 3月13日 | |
| 特許 5164007 | 近接露光装置 | 2013年 3月13日 | |
| 特許 5163997 | 光学センサー | 2013年 3月13日 | |
| 特許 5145598 | レーザ加工方法及それに使用する装置 | 2013年 2月20日 | |
| 特許 5145524 | 露光装置 | 2013年 2月20日 | |
| 特許 5146636 | 高さ測定装置 | 2013年 2月20日 | |
| 特許 5146362 | 偏光板の輝点欠陥修正用インク及びこれを用いた偏光板修正方法 | 2013年 2月20日 | |
| 特許 5145530 | フォトマスク及びそれを用いた露光方法 | 2013年 2月20日 | |
| 特許 5119446 | 光変調素子 | 2013年 1月16日 | |
| 特許 5119447 | 光変調素子 | 2013年 1月16日 | |
| 特許 5119516 | 液晶表示装置の製造方法及びその製造装置 | 2013年 1月16日 | |
| 特許 5119517 | 液晶表示装置の製造方法及びその装置 | 2013年 1月16日 | |
| 特許 5120814 | パターン形成方法及びパターン形成装置 | 2013年 1月16日 |
45 件中 31-45 件を表示
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5190609 5164002 5164001 5164007 5163997 5145598 5145524 5146636 5146362 5145530 5119446 5119447 5119516 5119517 5120814
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