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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第1304位 22件
(2012年:第1343位 19件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第2688位 7件
(2012年:第3300位 5件)
(ランキング更新日:2025年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特表 2013-508992 | 調整装置、および荷電粒子マルチ・ビームレット・リソグラフィ・システム | 2013年 3月 7日 | |
特表 2013-508991 | 荷電粒子マルチビームレットリソグラフィシステム、変調デバイスおよびその製造方法 | 2013年 3月 7日 | |
特表 2013-508993 | 調整装置を有する荷電粒子複数ビームレット・リソグラフィ・システム | 2013年 3月 7日 | |
特表 2013-507733 | 高電圧遮蔽配置 | 2013年 3月 4日 | |
特表 2013-507768 | エンハンストインテグリティー投影レンズアセンブリ | 2013年 3月 4日 | |
特開 2013-38426 | 荷電粒子ビームリソグラフィシステム及びターゲット位置決め装置 | 2013年 2月21日 | |
特表 2013-505575 | マルチプルビームを備えた荷電粒子光学システム | 2013年 2月14日 |
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2013-508992 2013-508991 2013-508993 2013-507733 2013-507768 2013-38426 2013-505575
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