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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第167位 266件
(2010年:第171位 294件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第133位 277件
(2010年:第152位 210件)
(ランキング更新日:2025年2月18日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-96300 | 磁気記録メディアの製造方法 | 2011年 5月12日 | |
特開 2011-96937 | 真空励起管の洗浄方法及び真空処理装置 | 2011年 5月12日 | |
特開 2011-96774 | 薄膜系太陽電池モジュール | 2011年 5月12日 | |
特開 2011-89188 | チタン含有スパッタリングターゲットの製造方法 | 2011年 5月 6日 | |
再表 2009-81978 | 永久磁石の製造方法 | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-91334 | 基板処理装置 | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-91160 | 基板搬送装置及び基板処理装置 | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-90969 | 透明導電膜形成用塗布液、透明導電膜の形成方法及び透明電極 | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-90529 | 真空処理装置、グラフ線表示方法 | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-90528 | 真空処理装置、グラフ線表示方法 | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-90527 | 真空処理装置、グラフ線表示方法 | 2011年 5月 6日 | |
再表 2009-81761 | プラズマソース機構及び成膜装置 | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-91261 | 基板処理装置、基板処理方法及びこの方法によって処理された基板 | 2011年 5月 6日 | |
再表 2009-81775 | 薄膜トランジスタの製造方法及び薄膜トランジスタ | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-86825 | 銅薄膜形成方法及び銅薄膜付き基板 | 2011年 4月28日 |
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2011-96300 2011-96937 2011-96774 2011-89188 2009-81978 2011-91334 2011-91160 2011-90969 2011-90529 2011-90528 2011-90527 2009-81761 2011-91261 2009-81775 2011-86825
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2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月18日(火) -
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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