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株式会社アルバック

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株式会社アルバックの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2012-219330	相変化メモリの形成装置、及び相変化メモリの形成方法	2012年11月12日
特開 2012-219321	真空処理装置	2012年11月12日
特開 2012-216709	処理装置および処理方法	2012年11月 8日
再表 2010-134346	成膜方法及び成膜装置	2012年11月 8日
特開 2012-212899	Ｃｕ膜の形成方法	2012年11月 1日
特開 2012-212820	透明導電膜の作成方法	2012年11月 1日
特開 2012-211395	成膜装置	2012年11月 1日
特開 2012-208007	含水量の測定方法	2012年10月25日
特開 2012-207307	成膜装置及び成膜方法	2012年10月25日
再表 2010-125801	ＺｎＯ−Ｇａ２Ｏ３系スパッタリングターゲット用焼結体及びその製造方法	2012年10月25日
再表 2010-125836	光照射装置の光照射方法及び光照射装置	2012年10月25日
再表 2010-123004	真空蒸着システム及び真空蒸着方法	2012年10月25日
特開 2012-207310	金属酸化膜の蒸着方法及びプラズマディスプレイパネルの製造方法	2012年10月25日
特開 2012-201910	マグネトロンスパッタ電極及びスパッタリング装置	2012年10月22日
特開 2012-204655	ＮｉＳｉ膜の形成方法、シリサイド膜の形成方法、シリサイドアニール用金属膜の形成方法、真空処理装置、及び成膜装置	2012年10月22日

339 件中 61-75 件を表示

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2012-219330 2012-219321 2012-216709 2010-134346 2012-212899 2012-212820 2012-211395 2012-208007 2012-207307 2010-125801 2010-125836 2010-123004 2012-207310 2012-201910 2012-204655

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