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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第167位 266件
(2010年:第171位 294件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第133位 277件
(2010年:第152位 210件)
(ランキング更新日:2025年5月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-114045 | 絶縁膜の成膜方法 | 2011年 6月 9日 | |
特開 2011-113696 | 電源装置 | 2011年 6月 9日 | |
特開 2011-108923 | 真空処理装置 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-108692 | CMOSデバイス用シリコンウェハの製造方法 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-108603 | 薄膜リチウム二次電池及び薄膜リチウム二次電池の形成方法 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-104757 | 搬送装置及び真空装置 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-104695 | ロボットアーム及び搬送装置 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-105550 | ITO焼結体の製造方法及びITOスパッタリングターゲットの製造方法 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-106032 | プロセス管理システム | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-107036 | 漏洩検知システム | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-107034 | リークディテクタ | 2011年 6月 2日 | |
再表 2009-99107 | 基板搬送用のロボットハンド | 2011年 5月26日 | |
再表 2009-93598 | スパッタ成膜方法およびスパッタ成膜装置 | 2011年 5月26日 | |
再表 2009-93580 | 液晶表示装置の製造方法 | 2011年 5月26日 | |
再表 2009-90994 | 基板ステージ、これを備えたスパッタ装置及び成膜方法 | 2011年 5月26日 |
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2011-114045 2011-113696 2011-108923 2011-108692 2011-108603 2011-104757 2011-104695 2011-105550 2011-106032 2011-107036 2011-107034 2009-99107 2009-93598 2009-93580 2009-90994
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6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
特許業務法人 藤本パートナーズ 株式会社ネットス 株式会社パトラ
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