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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第175位 251件
(2015年:第156位 297件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第141位 251件
(2015年:第184位 166件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5913259 | スパッタリング用ランタンターゲット | 2016年 4月27日 | |
特許 5913355 | 印刷回路用銅箔、銅張積層板、プリント配線板及び電子機器 | 2016年 4月27日 | |
特許 5913356 | 印刷回路用銅箔 | 2016年 4月27日 | |
特許 5913382 | スパッタリングターゲット組立体 | 2016年 4月27日 | |
特許 5913523 | 酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び高屈折率の導電性酸化物薄膜並びに酸化物焼結体の製造方法 | 2016年 4月27日 | |
特許 5913620 | Fe−Pt系焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2016年 4月27日 | |
特許 5907834 | 人工燐鉱石の製造方法 | 2016年 4月26日 | |
特許 5908895 | Niめっき金属板、溶接構造体、及び電池用材料の製造方法 | 2016年 4月26日 | |
特許 5909006 | 円筒型スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2016年 4月26日 | |
特許 5909082 | グラフェン製造用銅箔及びグラフェンの製造方法 | 2016年 4月26日 | |
特許 5904840 | 圧延銅箔 | 2016年 4月20日 | |
特許 5904869 | 超電導膜形成用圧延銅箔の製造方法 | 2016年 4月20日 | |
特許 5905600 | タンタルスパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2016年 4月20日 | |
特許 5905782 | 希土類元素含有物質からの希土類元素濃縮方法 | 2016年 4月20日 | |
特許 5902333 | スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2016年 4月13日 |
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5913259 5913355 5913356 5913382 5913523 5913620 5907834 5908895 5909006 5909082 5904840 5904869 5905600 5905782 5902333
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