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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第175位 251件
(2015年:第156位 297件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第141位 251件
(2015年:第184位 166件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5944666 | 高純度マンガンの製造方法 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5944936 | 試料連続分析装置及び試料連続分析方法 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5941596 | 低α線ビスマスの製造方法及び低α線ビスマス | 2016年 6月29日 | |
特許 5941959 | 電解銅箔及びその製造方法 | 2016年 6月29日 | |
特許 5936421 | 砒素含有溶液からの錫の回収方法 | 2016年 6月22日 | |
特許 5937652 | 電子回路用の圧延銅箔又は電解銅箔及びこれらを用いた電子回路の形成方法 | 2016年 6月22日 | |
特許 5937731 | スパッタリングターゲット | 2016年 6月22日 | |
特許 5939910 | コバルトの回収方法 | 2016年 6月22日 | |
特許 5933943 | フレキシブルプリント配線板用圧延銅箔、銅張積層板、フレキシブルプリント配線板及び電子機器 | 2016年 6月15日 | |
特許 5934088 | リチウムイオン電池用正極活物質、リチウムイオン電池用正極、及び、リチウムイオン電池 | 2016年 6月15日 | |
特許 5934089 | リチウムイオン電池用正極活物質、リチウムイオン電池用正極、及び、リチウムイオン電池 | 2016年 6月15日 | |
特許 5932705 | 印刷回路用銅箔 | 2016年 6月 8日 | |
特許 5925384 | 高純度マンガンの製造方法及び高純度マンガン | 2016年 5月25日 | |
特許 5925848 | リン化インジウム基板及び半導体エピタキシャルウェハ | 2016年 5月25日 | |
特許 5925907 | MgO−TiO焼結体ターゲット及びその製造方法 | 2016年 5月25日 |
252 件中 121-135 件を表示
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5944666 5944936 5941596 5941959 5936421 5937652 5937731 5939910 5933943 5934088 5934089 5932705 5925384 5925848 5925907
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