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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第175位 251件
(2015年:第156位 297件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第141位 251件
(2015年:第184位 166件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5902601 | 金属混合溶液中の金属の分離方法 | 2016年 4月13日 | |
特許 5903446 | キャリア付銅箔、キャリア付銅箔の製造方法、プリント配線板の製造方法、プリント回路板の製造方法、銅張積層板の製造方法及び電子機器の製造方法 | 2016年 4月13日 | |
特許 5903497 | 低α線ビスマスの製造方法並びに低α線ビスマス及びビスマス合金 | 2016年 4月13日 | |
特許 5898911 | 酸化インジウムの製造方法及び酸化インジウム | 2016年 4月 6日 | |
特許 5897755 | 表面処理銅箔、銅張積層板、プリント配線板、電子機器、半導体パッケージ、プリント配線板の製造方法、電子機器の製造方法、半導体パッケージの製造方法、樹脂基材の製造方法、銅箔の表面プロファイルを樹脂基材に転写する方法 | 2016年 3月30日 | |
特許 5897767 | スパッタリングターゲット/バッキングプレート組立体 | 2016年 3月30日 | |
特許 5892974 | 導電性及び応力緩和特性に優れる銅合金板 | 2016年 3月23日 | |
特許 5893797 | 銅合金スパッタリングターゲット | 2016年 3月23日 | |
特許 5888664 | 強磁性材スパッタリングターゲット | 2016年 3月22日 | |
特許 5888780 | 銅精鉱の処理方法 | 2016年 3月22日 | |
特許 5890671 | ITOスパッタリングターゲットの製造方法 | 2016年 3月22日 | |
特許 5886416 | 表面処理銅箔 | 2016年 3月16日 | |
特許 5886417 | 表面処理銅箔 | 2016年 3月16日 | |
特許 5886473 | Ti−Al合金スパッタリングターゲット | 2016年 3月16日 | |
特許 5887283 | 電磁波シールド用金属箔及び電磁波シールド材 | 2016年 3月16日 |
252 件中 166-180 件を表示
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5902601 5903446 5903497 5898911 5897755 5897767 5892974 5893797 5888664 5888780 5890671 5886416 5886417 5886473 5887283
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