特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ＪＸ日鉱日石金属株式会社

※ ログインすれば出願人(ＪＸ日鉱日石金属株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第175位　251件（2015年：第156位　297件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第141位　251件（2015年：第184位　166件）

（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

ＪＸ日鉱日石金属株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 5986117	表面処理された金属粉、及びその製造方法	2016年 9月 6日
特許 5986136	ＭｏＳｉ２製発熱体の製造方法	2016年 9月 6日
特許 5987105	ＩＴＯスパッタリングターゲット及びその製造方法	2016年 9月 6日
特許 5980746	電子部品用金属材料及びその製造方法、それを用いたコネクタ端子、コネクタ及び電子部品	2016年 8月31日
特許 5981356	化合物半導体単結晶、化合物半導体ウエハ、および化合物半導体単結晶の製造方法	2016年 8月31日
特許 5981600	キャリア付金属箔を有する積層体	2016年 8月31日
特許 5982058	タングステン酸ジルコニウム	2016年 8月31日
特許 5976855	透明電極膜を形成するためのスパッタリングターゲットの製造方法	2016年 8月24日
特許 5976867	磁性材焼結体スパッタリングターゲット	2016年 8月24日
特許 5977267	表面処理された金属粉、及びその製造方法	2016年 8月24日
特許 5977385	希土類元素含有物質からの希土類元素濃縮方法	2016年 8月24日
特許 5977392	樹脂製の板状キャリアと金属層とからなる積層体	2016年 8月24日
特許 5979644	スパッタリング用ランタンターゲット	2016年 8月24日
特許 5973056	磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法	2016年 8月23日
特許 5973167	リチウムイオン電池用正極活物質、リチウムイオン電池用正極及びそれを用いたリチウムイオン電池	2016年 8月23日

252 件中 76-90 件を表示

... 6

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5986117 5986136 5987105 5980746 5981356 5981600 5982058 5976855 5976867 5977267 5977385 5977392 5979644 5973056 5973167

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＪＸ日鉱日石金属株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数