特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社ＫＯＫＵＳＡＩ　ＥＬＥＣＴＲＩＣ

※ ログインすれば出願人(株式会社ＫＯＫＵＳＡＩ　ＥＬＥＣＴＲＩＣ)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第283位　135件（2020年：第332位　110件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第250位　116件（2020年：第276位　101件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年

株式会社ＫＯＫＵＳＡＩ　ＥＬＥＣＴＲＩＣの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
再表 2020-50124	クリーニング方法、半導体装置の製造方法、プログラムおよび基板処理装置	2021年 8月26日
特開 2021-120472	半導体装置の製造方法、プログラム及び基板処理装置	2021年 8月19日
特開 2021-121009	半導体装置の製造方法、プログラム及び基板処理装置	2021年 8月19日
特開 2021-117628	基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム	2021年 8月10日
特開 2021-118226	反応管の洗浄方法、半導体装置の製造方法、及び基板処理装置	2021年 8月10日
再表 2020-26445	基板処理装置およびデバイス製造方法	2021年 8月 5日
特開 2021-114606	基板処理装置及び半導体装置の製造方法	2021年 8月 5日
特開 2021-111636	半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム	2021年 8月 2日
特開 2021-111679	半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム	2021年 8月 2日
特開 2021-111760	半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム	2021年 8月 2日
特開 2021-106242	半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム	2021年 7月26日
特開 2021-106282	クリーニング方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム	2021年 7月26日
再表 2020-16914	半導体装置の製造方法、基板処理装置及びプログラム	2021年 7月15日
再表 2020-16915	半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム	2021年 7月15日
特開 2021-101479	プラズマ生成装置、基板処理装置、反応管、プラズマ生成方法、半導体装置の製造方法およびプログラム	2021年 7月 8日

135 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2020-50124 2021-120472 2021-121009 2021-117628 2021-118226 2020-26445 2021-114606 2021-111636 2021-111679 2021-111760 2021-106242 2021-106282 2020-16914 2020-16915 2021-101479

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ＫＯＫＵＳＡＩ　ＥＬＥＣＴＲＩＣの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数