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キヤノンアネルバ株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第741位 41件
（
2014年：第870位 33件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第464位 55件
（
2014年：第412位 88件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5657378 | イオンビームエッチング装置、方法及び制御装置 | 2015年 1月21日 | |
| 特許 5657948 | 真空処理装置及び基板移載方法 | 2015年 1月21日 | |
| 特許 5658170 | スパッタリング方法およびスパッタリング装置 | 2015年 1月21日 | |
| 特許 5654712 | 基板処理システム | 2015年 1月14日 | |
| 特許 5649426 | スパッタリング装置及びスパッタリング成膜方法並びにスパッタリング装置の電源制御方法 | 2015年 1月 7日 | |
| 特許 5649428 | イオンビームエッチング方法、イオンビームエッチング装置、コンピュータプログラム、記録媒体 | 2015年 1月 7日 | |
| 特許 5649441 | 金属膜を埋め込む工程を有する電子部品の製造方法 | 2015年 1月 7日 | |
| 特許 5649510 | プラズマ処理装置，成膜方法，ＤＬＣ皮膜を有する金属板の製造方法，セパレータの製造方法 | 2015年 1月 7日 | |
| 特許 5650760 | 製造装置 | 2015年 1月 7日 | |
| 特許 5650837 | 基板処理装置 | 2015年 1月 7日 |
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5657378 5657948 5658170 5654712 5649426 5649428 5649441 5649510 5650760 5650837
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