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キヤノンアネルバ株式会社
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第2865位 7件
（
2022年：第14391位 1件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第1238位 17件
（2022年：第2778位 6件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7395086 | Ｘ線発生装置、ターゲットの調整方法、および、Ｘ線発生装置の使用方法 | 2023年12月 8日 | |
| 特許 7394271 | Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法 | 2023年12月 7日 | |
| 特許 7393400 | 真空処理装置 | 2023年12月 6日 | |
| 特許 7393401 | 真空処理装置 | 2023年12月 6日 | |
| 特許 7390619 | 原子拡散接合法及び接合構造体 | 2023年12月 4日 | |
| 特許 7382988 | 積層構造体の製造方法 | 2023年11月17日 | |
| 特許 7337312 | Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法 | 2023年 9月 1日 | |
| 特許 7333884 | 電気部品、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置 | 2023年 8月25日 | |
| 特許 7317906 | 真空処理装置 | 2023年 7月31日 | |
| 特許 7314000 | 電子発生装置および電離真空計 | 2023年 7月25日 | |
| 特許 7309376 | 熱発生方法および装置 | 2023年 7月18日 | |
| 特許 7298029 | スパッタ装置および膜形成方法 | 2023年 6月26日 | |
| 特許 7202198 | プラズマ処理装置 | 2023年 1月11日 | |
| 特許 7202199 | プラズマ処理装置 | 2023年 1月11日 | |
| 特許 7200436 | 積層体及び積層体の製造方法 | 2023年 1月 6日 |
18 件中 1-15 件を表示
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7395086 7394271 7393400 7393401 7390619 7382988 7337312 7333884 7317906 7314000 7309376 7298029 7202198 7202199 7200436
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