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キヤノンアネルバ株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第1341位 19件
（
2018年：第4220位 4件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第1210位 15件
（2018年：第1831位 9件）
（ランキング更新日：2025年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6619916 | Ｘ線発生管、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置 | 2019年12月11日 | |
| 特許 6609088 | Ｘ線発生管、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置 | 2019年11月20日 | |
| 特許 6595002 | スパッタリング装置 | 2019年10月23日 | |
| 特許 6591568 | 磁気抵抗効果素子の製造方法 | 2019年10月16日 | |
| 特許 6588423 | 半導体基板の熱処理方法、半導体基板の製造方法、熱処理装置、及び基板処理システム | 2019年10月 9日 | |
| 特許 6571907 | 電子銃、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6564556 | プラズマ処理装置 | 2019年 8月21日 | |
| 特許 6546369 | プラズマ処理装置 | 2019年 7月17日 | |
| 特許 6530377 | 半導体基板の凹部の角部を丸める方法及び装置 | 2019年 6月12日 | |
| 特許 6516950 | プラズマ処理装置 | 2019年 5月22日 | |
| 特許 6516951 | プラズマ処理装置 | 2019年 5月22日 | |
| 特許 6487611 | 成膜方法および成膜装置 | 2019年 3月20日 | |
| 特許 6482013 | 構造体およびその製造方法 | 2019年 3月13日 | |
| 特許 6457707 | プラズマ処理装置 | 2019年 1月23日 | |
| 特許 6458206 | プラズマ処理装置 | 2019年 1月23日 |
15 件中 1-15 件を表示
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6619916 6609088 6595002 6591568 6588423 6571907 6564556 6546369 6530377 6516950 6516951 6487611 6482013 6457707 6458206
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