ホーム > 特許ランキング > キヤノンアネルバ株式会社 > 2016年 > 特許一覧
キヤノンアネルバ株式会社
※ ログインすれば出願人(キヤノンアネルバ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2016年 出願公開件数ランキング 第1509位 16件
（
2015年：第741位 41件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第506位 54件
（2015年：第464位 55件）
（ランキング更新日：2025年3月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6053819 | 磁気抵抗効果素子の製造方法 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6055575 | 真空処理装置及び真空処理方法 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6046871 | スパッタ装置および成膜装置 | 2016年12月21日 | |
| 特許 6047235 | 真空処理装置 | 2016年12月21日 | |
| 特許 6042196 | スパッタ装置、スパッタ装置の制御装置、および成膜方法 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6026263 | プラズマＣＶＤ装置、真空処理装置 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6028110 | 基板加工方法及び半導体装置の製造方法 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6023722 | ＳｒＲｕＯ３膜の成膜方法 | 2016年11月 9日 | |
| 特許 6018220 | 磁気抵抗効果素子の製造方法 | 2016年11月 2日 | |
| 特許 6016349 | 基板ホルダー及び真空処理装置 | 2016年10月26日 | |
| 特許 6016946 | 酸化処理装置、酸化方法、および電子デバイスの製造方法 | 2016年10月26日 | |
| 特許 6005288 | 酸化物薄膜の形成方法 | 2016年10月12日 | |
| 特許 6001194 | 窒化物半導体層の成膜方法及び半導体装置の製造方法 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 6004460 | 太陽電池の製造方法、および太陽電池 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 5997417 | 真空アーク成膜装置および成膜方法 | 2016年 9月28日 |
54 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6053819 6055575 6046871 6047235 6042196 6026263 6028110 6023722 6018220 6016349 6016946 6005288 6001194 6004460 5997417
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キヤノンアネルバ株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
4月1日(火) - 山口 山口市
4月1日(火) -
4月2日(水) -
4月2日(水) -
4月4日(金) -
4月1日(火) - 山口 山口市
4月9日(水) -
4月9日(水) -
4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
【セミナー｜知財業界で働くなら知っておくべき】知財部長と代表弁理士が伝える、知財部と事務所の違いとは〈4/10(木)19時～〉
4月11日(金) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
東京都品川区東品川2丁目2番24号 天王洲セントラルタワー 22階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒130-0022 東京都墨田区江東橋4-24-5 協新ビル402 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒460-0003 愛知県名古屋市中区錦1-11-11 名古屋インターシティ16F 〒104-0061 東京都中央区銀座8-17-5 THE HUB 銀座OCT 407号室(東京支店) 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
