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キヤノンアネルバ株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第1509位 16件
（
2015年：第741位 41件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第506位 54件
（2015年：第464位 55件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6053819 | 磁気抵抗効果素子の製造方法 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6055575 | 真空処理装置及び真空処理方法 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6046871 | スパッタ装置および成膜装置 | 2016年12月21日 | |
| 特許 6047235 | 真空処理装置 | 2016年12月21日 | |
| 特許 6042196 | スパッタ装置、スパッタ装置の制御装置、および成膜方法 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6026263 | プラズマＣＶＤ装置、真空処理装置 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6028110 | 基板加工方法及び半導体装置の製造方法 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6023722 | ＳｒＲｕＯ３膜の成膜方法 | 2016年11月 9日 | |
| 特許 6018220 | 磁気抵抗効果素子の製造方法 | 2016年11月 2日 | |
| 特許 6016349 | 基板ホルダー及び真空処理装置 | 2016年10月26日 | |
| 特許 6016946 | 酸化処理装置、酸化方法、および電子デバイスの製造方法 | 2016年10月26日 | |
| 特許 6005288 | 酸化物薄膜の形成方法 | 2016年10月12日 | |
| 特許 6001194 | 窒化物半導体層の成膜方法及び半導体装置の製造方法 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 6004460 | 太陽電池の製造方法、および太陽電池 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 5997417 | 真空アーク成膜装置および成膜方法 | 2016年 9月28日 |
54 件中 1-15 件を表示
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6053819 6055575 6046871 6047235 6042196 6026263 6028110 6023722 6018220 6016349 6016946 6005288 6001194 6004460 5997417
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