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キヤノンアネルバ株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第724位 46件
（
2012年：第347位 119件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第654位 50件
（
2012年：第926位 32件）
（ランキング更新日：2025年6月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5378534 | カルコパイライト型化合物薄膜の製造方法およびそれを用いた薄膜太陽電池の製造方法 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5371057 | 電離真空計 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5371731 | 成膜方法及び基板回転装置並びに真空処理装置 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5364172 | スパッタリング装置による成膜方法およびスパッタリング装置 | 2013年12月11日 | |
| 特許 5351140 | 磁気トンネル接合デバイスの製造方法 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5350911 | プラズマ発生装置及び成膜装置並びに成膜方法及び表示素子の製造方法 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5349366 | 複合型圧力計、及び複合型圧力計の製造方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5341082 | トンネル磁気抵抗素子の製造方法および製造装置 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5336151 | 薄膜形成装置及び磁気記録媒体の製造方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5336591 | 磁気センサ積層体、その成膜方法、成膜制御プログラムおよび記録媒体 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5324251 | 基板保持装置 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5309213 | プラズマ処理装置およびデバイスの製造方法 | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5302916 | 基板処理装置 | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5307785 | 真空排気システム | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5290841 | 金属膜作製装置及び金属膜作製方法 | 2013年 9月18日 |
50 件中 1-15 件を表示
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5378534 5371057 5371731 5364172 5351140 5350911 5349366 5341082 5336151 5336591 5324251 5309213 5302916 5307785 5290841
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