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キヤノンアネルバ株式会社
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（
2019年：第1341位 19件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第1162位 16件
（
2019年：第1210位 15件）
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6785935 | エッチング装置 | 2020年11月18日 | |
| 特許 6738976 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6721806 | 電離真空計およびカートリッジ | 2020年 7月15日 | |
| 特許 6714127 | プラズマ処理装置 | 2020年 6月24日 | |
| 特許 6704100 | Ｘ線発生装置およびＸ線撮影装置 | 2020年 6月 3日 | |
| 特許 6695011 | Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム | 2020年 5月20日 | |
| 特許 6687823 | 電離真空計およびカートリッジ | 2020年 4月28日 | |
| 特許 6688440 | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、プログラムおよびメモリ媒体 | 2020年 4月28日 | |
| 特許 6683903 | Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置 | 2020年 4月22日 | |
| 特許 6684973 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2020年 4月22日 | |
| 特許 6668521 | 半導体基板の熱処理方法及び熱処理装置 | 2020年 3月18日 | |
| 特許 6656478 | プラズマ処理装置および方法 | 2020年 3月 4日 | |
| 特許 6656479 | プラズマ処理装置および方法 | 2020年 3月 4日 | |
| 特許 6656480 | プラズマ処理装置および方法 | 2020年 3月 4日 | |
| 特許 6656481 | プラズマ処理装置および方法 | 2020年 3月 4日 |
16 件中 1-15 件を表示
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6785935 6738976 6721806 6714127 6704100 6695011 6687823 6688440 6683903 6684973 6668521 6656478 6656479 6656480 6656481
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