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キヤノンアネルバ株式会社
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（
2014年：第870位 33件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第463位 55件
（2014年：第412位 88件）
（ランキング更新日：2026年10月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5836485 | スパッタリング装置およびスパッタリング方法 | 2015年12月24日 | |
| 特許 5832372 | 真空処理装置 | 2015年12月16日 | |
| 特許 5827344 | 処理装置およびシールド | 2015年12月 2日 | |
| 特許 5824192 | 磁気抵抗効果素子の製造方法および製造システム | 2015年11月25日 | |
| 特許 5824189 | 磁気抵抗効果素子の製造システム | 2015年11月25日 | |
| 特許 5824072 | スパッタリング装置 | 2015年11月25日 | |
| 特許 5819978 | 成膜方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5815743 | 真空処理装置 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5807071 | 基板処理装置及び金属膜のエッチング方法、磁気抵抗効果素子の製造方法 | 2015年11月10日 | |
| 特許 5801179 | 成膜装置 | 2015年10月28日 | |
| 特許 5798194 | 隔膜型圧力計 | 2015年10月21日 | |
| 特許 5792812 | スパッタ装置 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5792723 | スパッタリング装置、成膜方法、および制御装置 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5775175 | スパッタリング装置およびシールド | 2015年 9月 9日 | |
| 特許 5767308 | スパッタリング装置 | 2015年 8月19日 |
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5836485 5832372 5827344 5824192 5824189 5824072 5819978 5815743 5807071 5801179 5798194 5792812 5792723 5775175 5767308
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