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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第116位 395件
(2018年:第111位 387件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第73位 341件
(2018年:第71位 392件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6583050 | オルガノポリシロキサンの製造方法 | 2019年10月 2日 | |
特許 6583114 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び物品 | 2019年10月 2日 | |
特許 6583126 | 新規カルボン酸オニウム塩、化学増幅レジスト組成物、及びパターン形成方法 | 2019年10月 2日 | |
特許 6583136 | 新規スルホニウム化合物及びその製造方法、レジスト組成物、並びにパターン形成方法 | 2019年10月 2日 | |
特許 6583156 | 光半導体素子封止用白色熱硬化性エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた光半導体装置 | 2019年10月 2日 | |
特許 6583160 | シリコーンゴム組成物及びシリコーンゴム | 2019年10月 2日 | |
特許 6583167 | レジスト材料及びパターン形成方法 | 2019年10月 2日 | |
特許 6583168 | レジスト材料及びパターン形成方法 | 2019年10月 2日 | |
特許 6583207 | 熱伝導性ポリマー組成物 | 2019年10月 2日 | |
特許 6583505 | イットリウム系溶射皮膜の製造方法 | 2019年10月 2日 | |
特許 6586405 | トリクロロシランの精製システムおよび多結晶シリコンの製造方法 | 2019年10月 2日 | |
特許 6579044 | レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2019年 9月25日 | |
特許 6579219 | ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びハーフトーン位相シフトマスク | 2019年 9月25日 | |
特許 6579272 | 熱伝導性シリコーン組成物 | 2019年 9月25日 | |
特許 6579274 | 光触媒積層体 | 2019年 9月25日 |
352 件中 76-90 件を表示
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6583050 6583114 6583126 6583136 6583156 6583160 6583167 6583168 6583207 6583505 6586405 6579044 6579219 6579272 6579274
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