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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第64位 370件
(
2025年:第61位 437件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第56位 350件
(
2025年:第64位 394件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7921282 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー、表面処理剤及び物品 | 2026年 9月15日 | |
| 特許 7921035 | レジスト材料及びパターン形成方法 | 2026年 9月15日 | |
| 特許 7921016 | 熱伝導性2液付加硬化型シリコーン組成物、硬化物及びシート | 2026年 9月15日 | |
| 特許 7921003 | 化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2026年 9月15日 | |
| 特許 7921001 | 化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2026年 9月15日 | |
| 特許 7919822 | 水系耐油剤組成物、水系耐油剤組成物の製造方法、紙の耐油処理方法及び耐油紙 | 2026年 9月14日 | |
| 特許 7919806 | 硬化性樹脂組成物、半導体封止材、接着剤、接着フィルム、プリプレグ、層間絶縁材料及びプリント配線板 | 2026年 9月14日 | |
| 特許 7919830 | オルガノポリシロキサン化合物、それを含む組成物、及びその硬化物 | 2026年 9月14日 | |
| 特許 7920490 | 負極活物質及びその製造方法 | 2026年 9月14日 | |
| 特許 7919522 | 洗浄方法 | 2026年 9月11日 | |
| 特許 7919302 | レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 | 2026年 9月11日 | |
| 特許 7919322 | 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法 | 2026年 9月11日 | |
| 特許 7919488 | リフト方法、及び他の基板の製造方法 | 2026年 9月11日 | |
| 特許 7919585 | 負極活物質及びその製造方法 | 2026年 9月11日 | |
| 特許 7919587 | 負極活物質及びその製造方法 | 2026年 9月11日 |
363 件中 61-75 件を表示
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7921282 7921035 7921016 7921003 7921001 7919822 7919806 7919830 7920490 7919522 7919302 7919322 7919488 7919585 7919587
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