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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第202位 214件
(
2016年:第200位 211件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第251位 118件
(
2016年:第228位 149件)
(ランキング更新日:2026年10月23日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6253002 | 光配向用偏光光照射装置及び光配向用偏光光照射方法 | 2017年12月27日 | |
| 特許 6252358 | 極端紫外光光源装置 | 2017年12月27日 | |
| 特許 6248743 | 蛍光光源装置 | 2017年12月20日 | |
| 特許 6245438 | 放電ランプ点灯装置 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6241062 | 極端紫外光光源装置 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6241051 | 光源装置及びプロジェクタ | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6241384 | 自己組織化単分子膜のパターニング装置、光照射装置及び自己組織化単分子膜のパターニング方法 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6241407 | 液面レベル検出装置、液面レベル検出方法、高温プラズマ原料供給装置及び極端紫外光光源装置 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6238207 | 光分析方法、光分析システム及びプログラム | 2017年11月29日 | |
| 特許 6237984 | 位置制御装置、位置制御方法、抗体チップ生産方法、プログラム及び記録媒体 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6237825 | 高温プラズマ原料供給装置および極端紫外光光源装置 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6236653 | 焼却灰安定化方法および装置 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6232782 | エキシマランプ | 2017年11月22日 | |
| 特許 6232741 | 小型紫外線照射装置 | 2017年11月22日 | |
| 特許 6233025 | 放電ランプ点灯装置 | 2017年11月22日 |
125 件中 1-15 件を表示
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6253002 6252358 6248743 6245438 6241062 6241051 6241384 6241407 6238207 6237984 6237825 6236653 6232782 6232741 6233025
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