ホーム > 特許ランキング > 台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司 > 2011年 > 特許一覧
台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司
※ ログインすれば出願人(台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第557位 64件
（
2010年：第726位 51件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第1078位 24件
（2010年：第1210位 18件）
（ランキング更新日：2025年3月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4847163 | ＣＭＯＳ製造技術と両立可能なバイポーラデバイス | 2011年12月28日 | |
| 特許 4836055 | 集積回路デバイスとその製造方法 | 2011年12月14日 | |
| 特許 4809353 | マイクロマシン構造体に気密パッケージされた光学モジュール | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4806250 | 多種動作電圧を有する集積回路分離用半導体構造 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4796771 | 半導体デバイス | 2011年10月19日 | |
| 特許 4795319 | 液浸リソグラフィ装置、及び液浸露光方法 | 2011年10月19日 | |
| 特許 4782168 | フォトレジストのキャラクタリゼーションおよび分析を行う方法 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4749134 | 自己整合ダブルゲートデバイス及びその形成方法 | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4749656 | 半導体デバイスの製造方法及びこの方法により得られる半導体デバイス | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4742077 | 液浸リソグラフィ装置、液浸露光方法及び液浸露光装置 | 2011年 8月10日 | |
| 特許 4736114 | 低および高電圧トランジスタを備える半導体デバイス | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4730672 | 絶縁膜層分離ＩＣ製造 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4730192 | 半導体回路設計方法 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4718532 | 半導体装置の製造方法及びイメージセンサ装置 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4709818 | 温度制御研磨ヘッドを有する化学機械研磨システム | 2011年 6月29日 |
24 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4847163 4836055 4809353 4806250 4796771 4795319 4782168 4749134 4749656 4742077 4736114 4730672 4730192 4718532 4709818
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
3月24日(月) -
3月25日(火) - 東京 品川区
3月25日(火) -
3月26日(水) - 東京 港区
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月24日(月) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒060-0002 札幌市中央区北2条西3丁目1番地太陽生命札幌ビル7階 特許・実用新案 商標 外国特許 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪府大阪市北区西天満３丁目５－１０ オフィスポート大阪８０１号 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 コンサルティング
新潟県新潟市東区新松崎３－２２－１５ ラフィネドミールⅡ-102 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟
