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台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第557位 64件
（
2010年：第726位 51件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第1078位 24件
（2010年：第1210位 18件）
（ランキング更新日：2025年3月24日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4847163 | ＣＭＯＳ製造技術と両立可能なバイポーラデバイス | 2011年12月28日 | |
| 特許 4836055 | 集積回路デバイスとその製造方法 | 2011年12月14日 | |
| 特許 4809353 | マイクロマシン構造体に気密パッケージされた光学モジュール | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4806250 | 多種動作電圧を有する集積回路分離用半導体構造 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4796771 | 半導体デバイス | 2011年10月19日 | |
| 特許 4795319 | 液浸リソグラフィ装置、及び液浸露光方法 | 2011年10月19日 | |
| 特許 4782168 | フォトレジストのキャラクタリゼーションおよび分析を行う方法 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4749134 | 自己整合ダブルゲートデバイス及びその形成方法 | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4749656 | 半導体デバイスの製造方法及びこの方法により得られる半導体デバイス | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4742077 | 液浸リソグラフィ装置、液浸露光方法及び液浸露光装置 | 2011年 8月10日 | |
| 特許 4736114 | 低および高電圧トランジスタを備える半導体デバイス | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4730672 | 絶縁膜層分離ＩＣ製造 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4730192 | 半導体回路設計方法 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4718532 | 半導体装置の製造方法及びイメージセンサ装置 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4709818 | 温度制御研磨ヘッドを有する化学機械研磨システム | 2011年 6月29日 |
24 件中 1-15 件を表示
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4847163 4836055 4809353 4806250 4796771 4795319 4782168 4749134 4749656 4742077 4736114 4730672 4730192 4718532 4709818
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