ホーム > 特許ランキング > 台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司 > 2012年 > 出願公開一覧
台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司
※ ログインすれば出願人(台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 件
（
2011年： 件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 件
（2011年： 件）
（ランキング更新日：2026年10月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年
台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2012-253345 | インターポーザ試験構造と方法 | 2012年12月20日 | |
| 特開 2012-244174 | ボンディングパッドおよびシールド構造を有する半導体装置およびその製造方法 | 2012年12月10日 | |
| 特開 2012-244177 | ボンディングパッドを有する半導体デバイス及びその製造方法 | 2012年12月10日 | |
| 特開 2012-235126 | 応力耐性が改善された裏面照射型イメージセンサ | 2012年11月29日 | |
| 特表 2012-522402 | 結晶物質の非極性面から形成される装置とその製作方法 | 2012年 9月20日 | |
| 特開 2012-170041 | 低リーク電圧検出回路 | 2012年 9月 6日 | |
| 特表 2012-515446 | サブマウント及びサブマウントの形成方法 | 2012年 7月 5日 | |
| 特開 2012-48706 | モデルパラメーターと電気パラメーターとの間の写像の構成方法 | 2012年 3月 8日 | |
| 特開 2012-48196 | フォトリソグラフィマスクの検出方法、システム及び装置 | 2012年 3月 8日 | |
| 特開 2012-44139 | 半導体装置を封止するシステム及び方法 | 2012年 3月 1日 | |
| 特開 2012-27999 | ワード線デコーダ・レイアウトのための方法と装置 | 2012年 2月 9日 | |
| 特表 2012-503340 | エピタキシャル層の成長によるデバイス形成 | 2012年 2月 2日 |
12 件中 1-12 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2012-253345 2012-244174 2012-244177 2012-235126 2012-522402 2012-170041 2012-515446 2012-48706 2012-48196 2012-44139 2012-27999 2012-503340
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
10月22日(木) - オンライン
10月22日(木) - オンライン
10月22日(木) - 東京 町田市
10月22日(木) - オンライン
10月23日(金) - 大阪 大阪市
10月23日(金) - 大阪 大阪市
10月23日(金) - オンライン
10月22日(木) - オンライン
10月26日(月) - オンライン
10月26日(月) - オンライン
商標的使用論・商標機能論・商標法26条・権利濫用論等の違いからみた『商標権侵害と対応策』 ～どのように攻め、どのように守るか～
10月26日(月) - オンライン
10月26日(月) - オンライン
10月27日(火) - 東京 千代田
10月27日(火) - 千葉 千葉市
10月27日(火) - 東京 港区
10月28日(水) - オンライン
英文契約の実務（基礎から読解・作成のポイントまで）―日本語契約との違いや起こりやすいトラブル、悩ましい英文も解説します―
10月28日(水) - オンライン
最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点（米国・欧州（EPC)・中国） ～米国ならびに EPC （欧州特許条約）・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します～
10月28日(水) - 東京 千代田
10月28日(水) - オンライン
10月28日(水) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月30日(金) - オンライン
10月26日(月) - オンライン
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
Floor 16, Tower A, InDo Building, A48 Zhichun Road, Haidian District, Beijing 100098, P.R. China 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒248-0006 神奈川県鎌倉市小町2-11-14 山中MRビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒450-0002 愛知県名古屋市中村区名駅三丁目13番24号 第一はせ川ビル6階 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
